HFJC600-II型磁控濺射真空鍍膜機

（應用于各種電學膜、金屬膜和SiO₂膜等的設備）

真空室：臥式頂蓋升降。內腔Φ600×700mm，,304不銹鋼

真空系統：直聯泵+F250分子泵

極限真空：3.0E^-4pa

恢復真空：大氣至4.0E^-3pa≤15min

烘烤：鹵鎢燈，最高溫度350℃，可調可控

靶源：4個Φ80靶，DC或RF（13.56MHz）電源，1.5KW可調

充氣系統：2路流量控制

工件機構：公自轉機構，3個Φ70樣品盤；公轉速度1-30rpm，自轉1-120rpm，可控可調

操作系統：可自動和手動操作，工藝參數設置，完善的水電檢測報警功能